分享真空管式气氛炉的亮点
真空管式气氛炉温场效果：温度波动度：±1.0℃，温场均匀性±3.0℃；
测温元件：K型热电偶；
壳体结构：双层炉壳，炉体表面温度低，四周表面温度：≤ 35℃，内箱采用3mm spcc无缝焊接；
可充气体：氢气，氮气，氧气和氩气及其它惰性气体；
真空管式气氛炉操作系统：LED数显仪表，数字显示电流表、电压表，指针压力表；
温控系统：温度控制方式为P.I.D+S.C.R可控硅,移相触发，可以调控制时间、升温速率、控制功率，PV值与SV同步显示，冲温不超过5℃；
温控曲线：50段可编程控制，可设置50段升降温程序；
真空管式气氛炉安全保护系统：具备完善的保护功能，有超温、短偶、过流、短路、传动动作连锁等功能，操作安全可靠；
温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为±1℃，温场稳定度±5℃，升温速率可任意设置。
真空管式气氛炉有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。主要应用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等 。
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