河南三特STGC-60-12CVD真空管式电阻炉 CVD管式炉，主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可应用于金属材料、石墨材料、锂电材料、晶体材料等新材料领域。

【产品名称】1400℃-CVD管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm 【额定温度】1400℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

【产品名称】1200℃-CVD梯度管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm+300mm 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

【产品名称】1700℃-CVD管式炉 【炉管尺寸】φ25--φ120mm 【加热区】300mm 【额定温度】1700℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。

【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统 【炉管尺寸】φ40--φ100mm 【加热区】300mm/440mm 【额定温度】1200℃ 【控温精度】±1℃ 【应用领域】PECVD系统（等离子增强化学气相沉积系统）由管式炉、真空获得、流量控制和射频电源四大模块组成。